誠(chéng)峰plasma設(shè)備技術(shù)簡(jiǎn)單，應(yīng)用范圍有哪些：
        誠(chéng)峰plasma設(shè)備產(chǎn)生的等離子體借助相應(yīng)的能量將氣體分離成第四態(tài)，使用這些有效成分的特性去解決試品表面，以此來(lái)實(shí)現(xiàn)潔凈.改性.光刻膠灰化的目的。

        plasma技術(shù)運(yùn)用廣泛，氣體的流速和濃度是氣體污染物控制系統(tǒng)應(yīng)用的兩大至關(guān)重要的要素。生物過(guò)濾和燃燒技術(shù)可以應(yīng)用于高濃度范圍，但鑒于氣體流量限制。低溫等離子體技術(shù)對(duì)氣體的流速和濃度有著廣泛的應(yīng)用，低溫等離子體設(shè)備的廣泛應(yīng)用是不言而喻的。plasma設(shè)備技術(shù)簡(jiǎn)單。吸附法應(yīng)注意定期更換吸附劑，脫附時(shí)可能導(dǎo)致再次污染；燃燒法需要較高的工作溫度；生物法應(yīng)嚴(yán)格控制ph值.適合微生物生長(zhǎng)的溫度、濕度等條件。而plasma設(shè)備技術(shù)更好地克服了上述技術(shù)的缺應(yīng)條件為常溫常壓，反應(yīng)器結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，低溫等離子體設(shè)備可同時(shí)消除混合污染物（在某些情況下也具有協(xié)同作用），無(wú)再次污染。就經(jīng)濟(jì)可行性而言，低溫等離子體反應(yīng)裝置本身的系統(tǒng)組成是單一而緊湊的。在運(yùn)行成本和微觀方面，離子溫度基本保持不變，因?yàn)榉烹娺^(guò)程只會(huì)提高電子溫度，因此反應(yīng)系統(tǒng)可以保持低溫。低溫等離子體設(shè)備不僅能源利用率高，而且設(shè)備維護(hù)成本低。
        誠(chéng)峰plasma該設(shè)備在氣體污染物控制方面具有明顯的優(yōu)勢(shì)。其基本概念要在靜電場(chǎng)的加速作用下產(chǎn)生高能電子。當(dāng)電子平均能量超過(guò)目標(biāo)處理對(duì)象的分子化學(xué)鍵能時(shí)，分子鍵斷裂，以消除氣體污染物。
誠(chéng)峰plasma設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)是：
1.在需要粘合之前張力，然后才需要粘合。通過(guò)微波等離子源，反應(yīng)氣體將根據(jù)工藝選擇O2/H2/N2/Ar等）離子化，然后離子和其他物質(zhì)與表面有機(jī)污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成真空泵抽出的廢氣。潔凈材料的表面可以達(dá)到清潔的目的。經(jīng)過(guò)測(cè)試，潔凈前后的表面張力發(fā)生了很大的變化，這有助于在下一步中連接或粘合。
2.材料表面在表面噴涂前進(jìn)行改性，提高噴涂效果。一些化學(xué)材料，如PP或其他化學(xué)材料，本身是疏水或親水性的。同樣，通過(guò)上述工藝氣體進(jìn)入、離子化、反應(yīng)、表面修飾，使其親水或疏水，便于下一步噴涂。
3.等離子體還有一種噴涂技術(shù)和熱噴涂技術(shù)，主要是直接噴涂大型金屬表面，效率和效果都很好。