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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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分析了誠峰等離子體設(shè)備在處理物質(zhì)時通入N2的作用

       誠峰等離子體設(shè)備常用汽體為N2。這類汽體主要與在線等離子體相結(jié)合,用于材料表面的活化改性。可在真空中運用。N2對改善材料表面的侵潤性有一定作用。氮是1種非特異性汽體,在等離子體設(shè)備清洗過程中,主要作為非反應(yīng)性氣體存在,氮等離子體可以提高材料的硬度和耐磨性。有時氮氣還可以用作1種特異性汽體,并形成氨的化合物。在運用氮氣或在等離子體中作為1種非反應(yīng)性氣體時,更容易發(fā)生。1種全新的高科技技術(shù),是用等離子體來實現(xiàn)1種傳統(tǒng)的清潔方法所不能達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的1種狀態(tài),也稱為物質(zhì)的第四態(tài),與大部分的固體汽體三態(tài)不同。向汽體增加充足的電能,使其離化,即為等離子態(tài)。血漿中的“特異性”成份包括:離子.電子.原子.特異性基.受激態(tài)核素(亞穩(wěn)態(tài)).光子等。等離子體設(shè)備便是使用這類特異性成份對樣品表面進(jìn)行處理,以達(dá)到潔凈、涂布等目的。

等離子體設(shè)備

      誠峰等離子體設(shè)備按汽體可分為特異性汽體和非特異性汽體等離子體:根據(jù)產(chǎn)生等離子體時運用的汽體的化學(xué)性質(zhì),氬氣(Ar)、N2、氟化氮(CF4)、四氟化碳(CF4)、空氣等不特異性汽體有不同的反應(yīng)機(jī)理,但特異性汽體等離子體的化學(xué)反應(yīng)特異性較高。氣態(tài)、等離子體設(shè)備用來清洗的污染物也應(yīng)有不同的選擇。1種汽體滲透到一個或多個附加汽體時,這類元素的混合氣體的混合氣就會產(chǎn)生我們想要的腐蝕和清潔效果(果)。使用等離子體設(shè)備中的離子或高活性原子,使表面污染物撞擊或形成揮發(fā)性汽體,再通過真空系統(tǒng)帶走,以達(dá)到凈化表面的目的。
       在高頻率電磁場中,空氣中的氧,如甲烷。水蒸汽等汽體分子在電弧放電的情況下,能細(xì)化出在快速電磁場中位于低氣壓狀態(tài)的氧。這種電子在電磁場加速時獲得了高能,并與周圍的分子或原子發(fā)生碰撞,重新在分子和原子中激發(fā)電子,而這類電子本身位于受激態(tài)或離子態(tài),此時物質(zhì)存在的狀態(tài)便是等離子體。除汽體分子.離子和電子外,等離子體中存在電性中性的原子或原子團(tuán),它們位于1種電能激發(fā)狀態(tài),也稱為自由基,等離子體發(fā)射出波段長的光.等離子體與物質(zhì)表面相互作用時,電能具有重要作用。

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