3種常見的plasma設(shè)備根據(jù)其不同的結(jié)構(gòu)做不同的說明：
       諸多工業(yè)和實驗領(lǐng)域都有使用plasma設(shè)備表面處理機,對于剛剛接觸這個東西的人來說,總是不了解不知道常見的等離子表面處理機的具體型號。業(yè)內(nèi)常所說的常壓大氣型設(shè)備和中低壓真空型設(shè)備實際上就是要根據(jù)等離子體放電時形成高壓等離子體放電的大氣環(huán)境性質(zhì)來做區(qū)分的,簡單來說:前者是在大氣環(huán)境下進行放電和處理的,后者是在密閉真空的環(huán)境下進行放電和表面處理。今天主要給大家介紹一下常見的等離子表面處理機種類。

1.常壓型的DBD準輝光低溫plasma設(shè)備
      常壓型的DBD準輝光低溫等離子設(shè)備-誠峰智造等離子清洗機
大氣DBD準輝光是一種介質(zhì)阻擋放電形式,一般借助傳送帶將工件勻速通過等離子體區(qū),在形狀規(guī)則的薄膜類產(chǎn)品以及PET和PVC材料居多。
2.常壓型的射流直噴plasma設(shè)備
       常壓型的射流直噴等離子設(shè)備-普樂斯等離子清洗機
射流型的等離子設(shè)備都是通過將氣源提供氣體,通入到噴槍內(nèi)部的氣流通道,由兩端電極放電形成等離子體,再在氣流的不斷帶動下,對工件表面進行處理。根據(jù)噴槍是否旋轉(zhuǎn)、噴槍個數(shù)以及是否與自動化接合,又有直噴式、旋轉(zhuǎn)式、多噴槍式、在線式、獨立式等細分的類型。此外,還有Arc電弧放電形式,因其穩(wěn)定性局限以及使用并不多,這里就不多介紹了。
3.低壓真空型plasma設(shè)備
       低壓真空型的設(shè)備氣體的分離處理工藝全程工作都是在一個高度密閉均勻的高壓腔體范圍內(nèi)循環(huán)進行,通過低壓真空泵可以形成低真空環(huán)境,腔體內(nèi)分子的相對壓力大小會因此逐漸變的小,分子間壓力的相對間隔將漸漸地變的大,分子間受到的相互作用力會越來越變小,通過低壓高頻電源所產(chǎn)生出的低頻高壓脈沖交變電場還可以迅速將分離工藝氣體震蕩激發(fā)成一個具有極高化學(xué)反應(yīng)力活性氣體或超高能量密度的高壓等離子體,然后清除與工藝材料表面產(chǎn)生的一切有機污染物質(zhì)及各種微顆粒污染物反應(yīng)生成或彼此碰撞后形成各種揮發(fā)性物質(zhì),然后再由離心真空泵過濾將所有這些有害揮發(fā)性物質(zhì)一一排除去,從而能達到表面的清潔、活化功能等保護目的。