電漿清洗機(jī)的清潔分類，作為技術(shù)類的文章我們請(qǐng)到了CRF電漿清洗機(jī)工程師盧工老師，給網(wǎng)友們分享清潔的分類，小編現(xiàn)在總結(jié)下來(lái)分享到網(wǎng)站上，希望能幫助大家對(duì)電漿清洗機(jī)的處理分類有一定了解！等離子體與固體表層的化學(xué)反應(yīng)可分為物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)。物理反應(yīng)機(jī)制是活性顆粒轟擊待清潔表層，使污物脫離表層，從而被真空泵吸走；化學(xué)反應(yīng)機(jī)制是各種活性顆粒和污物化學(xué)反應(yīng)形成揮發(fā)性物質(zhì)，然后由真空泵吸走揮發(fā)性物質(zhì)。

（1）物理反應(yīng)
以物理反應(yīng)為中心的等離子體清潔，也稱為濺射浸蝕(SPE)或離子銑削(IM)，其特點(diǎn)是自身不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，清潔表層不留金屬氧化物，能夠維持被清潔物的化學(xué)純凈性，浸蝕作用各向異性的缺陷是對(duì)表層造成很大的損傷，形成很大的熱效應(yīng)
（2）化學(xué)反應(yīng)
化學(xué)等離子體清潔方式具有清潔速度快、選擇性好、消除有機(jī)物等特點(diǎn)，缺陷是會(huì)在表層形成金屬氧化物。與物理反應(yīng)相比，化學(xué)反應(yīng)的缺陷難以克服。而且兩種化學(xué)反應(yīng)機(jī)制對(duì)表層微觀形貌的影響差異很大。
物理化學(xué)作用能使表層在分子水平上更粗糙，進(jìn)而改變表層的力。此外1種等離子體清潔在離子體表面反應(yīng)機(jī)理中起著重要作用，即化學(xué)反應(yīng)離子體浸蝕和化學(xué)反應(yīng)離子束浸蝕，兩種清潔相輔相成，離子轟擊破壞被清潔的表層，削弱化學(xué)鍵，形成原子狀態(tài)，易于吸收化學(xué)反應(yīng)劑，離子碰撞使清潔物加熱。
      電漿清洗機(jī)的潔凈分級(jí)，在物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)等方面各有優(yōu)劣，但它們的應(yīng)用也各有不同，但一般的物理清洗都是用AR電漿清洗機(jī)體清洗，氬自身便是稀有氣體，等離子體的AR便是AR。化學(xué)清洗一般采用氧氣等離子體清潔，讓物體表層發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成形成CO2、CO和水等易揮發(fā)物，進(jìn)而消除表層的污物。以達(dá)到清潔的目的！